PRODUCCIÓN
Proceso de creación de un sistema reticular propio
Este proyecto nace de las anteriores fases de investigación y experimentación en la creación tipográfica parametrizada. A través del desarrollo de un sistema reticular propio, hemos explorado y definido un método estructurado para diseñar tipografías de manera eficiente y coherente. El resultado de este proceso es la creación de una fuente tipográfica denominada Beta, que no solo pone a prueba el sistema, sino que también refleja el proceso continuo de retroalimentación entre las retículas y los glifos.
A continuación explicaremos tres puntos clave en este proceso.
SISTEMA RETICULAR
El proceso de creación del sistema reticular y de la fuente tipográfica ha sido un ejercicio de coevolución. A medida que se desarrollaban los glifos básicos, surgía la necesidad de ajustar y expandir el número de retículas.
MEDIDAS RETICULARES
RETÍCULA DE LÍNEAS GUÍA
Altura de "x"
10 módulos
Altura de caja alta
4 módulos
Altura de ascendentes
4 módulos
Altura de descendentes
4 módulos
Overshoot de 1/5 de módulo
RETÍCULA DE CURVAS
Curvas de caja baja
2 círculos de 6 módulos de diámetro
Curvas de caja alta
2 círculos de 8 módulos de diámetro
En cada círculo hay otro inscrito que corresponde a la contraforma del glifo
Caja baja
2 módulos
Caja alta
4 módulos
RETÍCULA DE DIAGONALES
Diagonal inscrita en el rectángulo que contiene a un caracter de caja alta y baja, respectivamente.
Generando líneas divergentes a la diagonal hacia los puntos de corte de la retícula modular con cada rectángulo.
Diagonales de caja baja
Altura de descendentes
SISTEMA DE CORRECCIÓN ÓPTICA
Corrección óptica de curvas
CORRECCIÓN ÓPTICA DE “a”
CORRECCIÓN EN LAZO:
CORRECCIÓN EN GOTA:
Corrección óptica de diagonales
CORRECCIÓN ÓPTICA DE “a”
CORRECCIÓN EN VERTICE:
FUENTE TIPOGRÁFICA
La fuente adquirió el nombre de Beta durante el proceso de creación, se llama así precisamente porque representa una versión experimental y en constante ajuste. Es un "beta" que está diseñado para refinar y perfeccionar el sistema de retículas en función de las necesidades que surgen durante su uso. La naturaleza del proyecto requería que tanto las retículas como los glifos se adaptaran y evolucionaran juntos, haciendo de Beta una manifestación tangible del proceso iterativo del diseño
