EXPERIMENTACIÓN
Estudio y análisis de los sistemas reticulares
El proyecto inicia con un interés en cómo las matemáticas están implicadas en el diseño tipográfico y hasta qué punto pueden convivir en armonía con el aspecto visual que engloba la construcción tipográfica. Como método de estudio se lleva a cabo la observación directa y el análisis de referentes históricos en geometrización y parametrización tipográfica. A partir de esta, se seleccionan cuatro propuestas clave para un análisis profundo, que servirán como base para la experimentación posterior.
A continuación exploraremos dos conceptos clave para el entendimiento de esta fase:
ENFOQUE DE LA FASE EXPERIMENTAL
La fase experimental sigue las directrices del design thinking, que se enfoca en el proceso y no en una solución previa. Como explica Raquel Pelta (2013), el objetivo es equilibrar lógica y creatividad para resolver problemas de manera innovadora, iniciando sin una conclusión predeterminada.
RECUPERACIÓN Y ANÁLISIS DE RETÍCULAS HISTÓRICAS
Selección de referentes
Se seleccionan cuatro propuestas históricas de geometrización y parametrización tipográfica, atendiendo a aquellas que difieren más entre sí: Luca Pacioli, Philippe Grandjean, Herbert Bayer y el Instituto DIN.
Análisis de retículas
En el análisis, se examinan imágenes que muestran la construcción tipográfica sobre las retículas utilizadas por estos diseñadores para entender sus métodos. Estas pautas se ponen a prueba en los mismos sistemas para verificar su precisión su capacidad para llegar a resultados similares a los originales. Luego, se exploran las normas establecidas, identificando puntos fuertes, limitaciones y nuevas posibilidades, incluso combinando capas de distintos sistemas y realizando bocetos para evaluar diferentes resultados.
OBSERVACIONES
LUCA PACIOLI
Estructura delimitante
Cuadrado subdividido en cuartos cuando la letra a dibujar lo requiere, círculo inscrito en el cuadrado base y diagonales trazadas.
PHILIPPE GRANDJEAN
Estructura delimitante
Cuadrícula de 8x8 con subdivisión de 6x6.
HERBERT BAYER
Sin estructura delimitante
Círculos divididos en una cuadrícula de 2x2 con otro círculo inscrito dentro de cada uno de ellos.
INSTITUTO DIN
Estructura delimitante
Rejilla de 18 módulos verticales, círculos inscritos con un diámetro de 6 módulos y una diagonal de 45º.
Propuesta hipotética
Basado en los experimentos, se plantea un proyecto hipotético: la creación de un sistema que parametrice el mayor número de variables posibles durante la construcción tipográfica.
DESARROLLO DE UN SISTEMA RETICULAR PROPIO
El desafío al querer parametrizar el mayor número de variables posibles es la sobrecarga de retículas del sistema. Se prevé que habrá, como mínimo, una retícula por cada tipo de elemento estructural (rectas, curvas y diagonales). Por ello, se plantea el sistema como un conjunto de capas reticulares clasificadas por estructuras formales, lo que permite el uso del número de capas necesarias por cada glifo. Es decir, si el glifo está construido con líneas rectas, requerirá solo las capas construidas para rectas.
Retícula de rectas + Retícula de curvas de caja alta
Retícula de rectas + Retícula de diagonales de caja baja
El procedimiento para crear las distintas capas consiste en dividir un set de glifos básico por estructura formal, comenzando por las estructuras más sencillas, rectas, y continuando según el nivel de complejidad con curvas y diagonales.
Es importante destacar que todas las decisiones tomadas afectan a ciertas características del producto o productos que se puedan construir con este sistema. En otras palabras, la variabilidad de las capas del sistema reticular influye en el resultado final.
Composición del sistema
El sistema reticular se puede organizar en tres conjuntos principales: capas de rectas, capas de curvas y capas de diagonales.
La capas rectas incluyen la retícula base, la retícula modular y las líneas guía. Estas capas se integran fácilmente, ya que la retícula base es una subdivisión de la retícula modular, y las líneas guía coinciden con las líneas horizontales de esta última. Ademas, las líneas de "overshoot", que corrigen ópticamente las curvas, se alinean con las de la retícula base. Este conjunto de capas define la altura de "x", así como la altura de ascendentes y descendentes en las tipografías que se construyan sobre ellas
La capas curvas se dividen en dos: una para glifos de caja alta y otra para caja baja. En la caja baja, se utilizan círculos de 6x6 dispuestos horizontalmente, con separación de un módulo. La altura de "x" y las ascendentes y descendentes se definen con pares de círculos desplazados verticalmente. Para glifos de caja alta, se emplean círculos de 8x8 con un método similar. Este sistema de superposición ajusta el grosor del trazo variando la distancia entre los círculos.
La capas diagonales utilizan un método similar al dibujo en perspectiva, adaptado a glifos de caja alta y baja con diferentes proporciones. Para la caja baja, se traza un rectángulo con el ancho y alto de "x", dentro del cual se dibuja una diagonal. Desde esta diagonal, se extienden líneas divergentes hacia los bordes del rectángulo, siguiendo la retícula modular, para definir la estructura de las diagonales.